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ASML首款用于5nm制程的多光束检测工具问世



处理器厂商开发、设计和制造新的处理器,其中一个重要的方面是计量学,它对整个过程中的制造步骤进行分析,以确保你想要发生的事情是实际发生。计量学可以让制造厂识别机器是否正常工作,也有助于对最终产品的表征,即通过禁硅片的某些电压/频率或分选,如果硅片特别差,可以在循环中提前丢弃,从而节省资金和时间。

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如同制造过程中的许多其他步骤一样,在晶圆厂内,计量是一个时间和空间密集型的工作。正如更好的光刻机转向EUV目标一样,既能实现更小的特征,又能加快每片芯片的加工时间,计量的主要目标是准确的报告,这些机器的吞吐量提高,意味着在任何给定的运行中都需要更少的机器,工艺节点步骤之间的延迟可以缩短。

ASML公司宣布其多光束检测工具生产线有了重大发展。新的eScan1000将单光束扫描过程转移到九光束扫描过程中,ASML声称,对于在线缺陷检测应用,这类工具的吞吐量提高了600%。该工具适用于当前生产的所有主要工艺节点以及5nm及以上。

该公司解释说,新的eScan1000工具包含一个电子光学系统,可以将一束主光束分成多个光束,同时还可以收集和处理这些次要光束的结果。该工具将串扰限制2%以下,以保持成像质量,并使用高速模式提高了整体的吞吐量,新的计算硬件加速处理小束数据的速度比以前更快。此外,该工具还可在一定范围的光束电流下,分配给它用于物理缺陷检测和电压对比检测。ASML宣传说,它拥有一个专有的数据库,在缺陷检测能力方面表现出色,能发现更多传统计量方法所遗漏的缺陷。

据消息称,ASML已经在过去一周内将首台eScan1000系统运往硅谷某特定客户,在客户现场进行初步测试和鉴定。但没有说明客户是谁。ASML预计将扩大eScan1000设备的范围,以满足客户的特定需求,并表示将继续开发具有更多光束和更广泛的光束分辨率的多光束技术。鉴于该工具的重要性,我们可能会在今年晚些时候的某个行业活动中看到路线图。

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