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中国还需要EUV光刻机吗?中芯国际:量产和研发工艺暂不需要



EUV光刻机是制造7nm以下节点先进工艺的必备工具,目前国内还没有EUV设备。作为国内最先进的晶圆代工厂,中芯国际董事长周子学日前表态,该公司已经量产和研发的工艺还不需要EUV光刻机。光刻是半导体芯片制造中最费时间也是最费成本的环节之一,而且它决定了芯片的工艺水平,常说的XXnm工艺主要是看光刻机水平,10nm工艺之后难度越来越大,光刻机也需要升级到EUV级别。

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台积电在第一代7nm工艺上没有使用EUV光刻机,但是7nm之后的工艺就很难避开EUV光刻机了,理论上可以用多重曝光的方式制造5nm级别的芯片,但是成本、良率都是个问题,无法拒绝EUV光刻机。

目前EUV光刻机只有荷兰ASML公司才能生产,单台售价超过1.2亿欧元,约合10亿元一台,此前报道称中芯国际订购了一台EUV光刻机用于先进工艺研发,本应该在2019年交付,不过ASML公司一直没被批准出售。

日前在回应投资者提问时,中芯国际董事长兼执行董事周子学表示,关于设备采购公司依据相关商业协议进行,不对单一设备的采购情况进行评论。公司目前量产和主要在研项目暂不需用到EUV光刻机。

根据中芯国际之前所说,在14nm工艺之后,中芯国际还有N+1、N+2代工艺,其中N+1工艺相比于14nm性能提升20%、功耗降低57%、逻辑面积缩小63%,SoC面积缩小55%,之后的N+2工艺性能和成本都更高一些,这两个工艺都不需要EUV光刻机。

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