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ASML China展示DUV光刻機可以生產7nm及以上工藝芯片



在正在進行的第三屆CIIE上,光刻機巨頭ASML也參加了展覽,並在其展位上展示了DUV光刻機。 據悉,ASML之所以沒有展示新的EUV光刻機,主要是因為它們仍然無法向中國出口EUV光刻機,而這次展示的DUV光刻機可以生產7納米及以上的工藝芯片。

ASML這次還帶來了其整體光刻解決方案,其中包括光刻機的先進控制功能,可通過建模,仿真,分析和其他技術來計算光刻和測量,從而不斷提高邊緣定位精度。

在此之前,ASML首席財務官Roger Dassen在財務報告會議上的視頻採訪中談到了與中芯國際等中國客戶的業務狀況。 他說,在某些情況下,出口光刻機不需要許可證。

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羅傑·達森指出,ASML了解美國當局當前的法規及其解釋。 當然,他們也知道這些與特定的中國客戶密切相關。 但是,如果您對ASML(針對特定的中國客戶)大致了解其規則和法規的總體含義,則意味著ASML能夠在沒有出口許可證的情況下向荷蘭的這些中國客戶提供DUV光刻系統。

美國僅限制美國向中國出口芯片,光刻機等,但不限制其他國家向中國進口。 荷蘭不在美國禁令範圍之內。

目前的光刻機主要分為EUV光刻機和DUV光刻機。 DUV光刻機分為兩種:乾餾和液浸。 其中,液浸型誕生於ASML。 儘管其波長為193nm,但等效於134nm。 經過多次曝光後,液浸光刻機也可以實現7nm工藝。 但是,每增加一次曝光都會大大增加製造成本,並且良率也難以控制。

EUV光刻機使用13.5nm波長的光源,這是突破10nm芯片工藝節點必不可少的工具。換句話說,即使DUV(深紫外線)光刻機可以找到尼康和佳能的替代品,而沒有ASML的EUV光刻機,芯片巨頭台積電,三星和英特爾的5nm生產線也無法投入生產。

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